Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury

6664

Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury

Elektronová litografie je všeobecně uznávanou technikou v technologii mikroelektroniky pro generaci geometrických obrazců s detaily submikrometrových rozměrů. Při rozlišení na úrovni řádově 0.1um je možné využít tuto technologii i pro přípravu různých difraktivních struktur, které jsou schopny formovat vlnoplochy optických vln při využití jevu difrakce. Realizace difraktivních struktur však vyžaduje zvládnutí technologií a technik, které mají odlišnosti oproti mikroelektronickým strukturám. Tyto odlišnosti je možné charakterizovat 1) zásadně submirometrovými detaily, 2) definovaným profilem reliéfu záznamového materiálu, 3) zpracováním velkého objemu dat (řádově GB), 4) nutností řešit rigorózně tzv. proximity efekt pro daný litograf a 5) dlouhodobým bezchybným chodem zařízení při zajištění stálosti jeho provozních parametrů během expozice. Projekt je zaměřen na řešení výše uvedených problematik, aby mohl být stávající litograf prakticky využit v oblasti difraktivní optiky.
Řešitel v ÚPT: 
Mgr. František Matějka
Řešitel: 
František Matějka - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i.
Spoluřešitelé: 

Vladimír Kolařík - Vysoké učení technické v Brně
Pavel Fiala - ČESKÉ VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V PRAZE

Agentura: 
AV ČR
Reg. č.: 
IBS2065014
Datum od: 
1. 1. 2000
Datum do: 
31. 12. 2002